AppNote XRF1054 : SiO₂, AlSi, Ti, TiN, Pt, AlCu et BPSG sur silicium

Contexte

Cet article démontre les capacités de l’analyseur Rigaku NEX CG EDXRF pour la mesure de l’épaisseur de couche mince (Tox) appliquée aux tranches de semi-conducteur. Des étalonnages empiriques simples en 2 points sont utilisés pour les films monocouches SiO₂, AlSi, Ti, TiN, Pt, AlCu et BPSG sur des substrats de silicium pour une utilisation dans le contrôle qualité dans l’industrie des semi-conducteurs. Le contrôle des processus dans la fabrication de semi-conducteurs est essentiel. Des tolérances serrées laissent peu de marge d’erreur dans le traitement des matériaux semi-conducteurs. L’épaisseur du film et l’intégrité de la concentration sont vitales pour des performances optimales de l’appareil. Le traitement des semi-conducteurs implique le dépôt séquentiel de plusieurs couches pour compléter le dispositif. Toute erreur lors de la construction de ces appareils peut entraîner des effets indésirables dans le traitement futur et entraîner une défaillance ou une dégradation de l’appareil.